第一部
講演
招待講演 米国におけるテクニカル・ライティングの設計と実施における諸問題（三田村 照子） 講演１ 特許版・産業日本語の取り組み紹介－特許ライティングマニュアル－（松田 成正）
－図式クレームに基づく請求項文ライティング（構造化レベル）－（横井 俊夫） －図式クレームに基づく請求項文ライティング（オントロジー化レベル）－ （橋田 浩一） －総合的な特許ライティング支援環境－(谷川 英和） 講演２ 産業文書に関する言語処理技術の開発と期待（井佐原 均） 講演３ 『日本語スタイルガイド』の活用とTC技術検定（高橋 尚子） 講演４ システム開発文書の品質とはなにか（藤田 悠）
第二部
産業日本語関連デモ展示の紹介
特許明細書半自動生成システム（PatentGenerator ）（有限会社アイ・アール・ディー） 可読性診断技術―産業日本語ライティング支援への活用―（東芝ソリューション株式会社 ＩＴ技術研究所） Patent Structure Viewer（株式会社インテック） 特許意味検索のプロトタイプシステム（株式会社富士通研究所 メディア処理システム研究所） データベースアプローチに基づく特許機械翻訳システム（有限会社サイバープロ） 多角的な文書比較『歌詠』とカスタマイズ容易な日本語精査『鶯』（株式会社クレステック／ アイビー・システム株式会社） 翻訳支援環境の研究開発（独立行政法人情報通信研究機構 ユニバーサルコミュニケーション研究所 多言語翻訳研究室）
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